Un nuevo método para enfocar SEBs utilizando el campo magnético periódico y el campo electrostático
Autores: Yin, Pengcheng; Xu, Jin; Yue, Lingna; Yang, Ruichao; Yin, Hairong; Zhao, Guoqing; Guo, Guo; Liu, Jianwei; Wang, Wenxiang; Gong, Yubin; Feng, Jinjun; Li, Dazhi; Wei, Yanyu
Idioma: Inglés
Editor: MDPI
Año: 2021
Acceso abierto
Artículo científico
2021
Un nuevo método para enfocar SEBs utilizando el campo magnético periódico y el campo electrostático
Categoría
Ingeniería y Tecnología
Subcategoría
Ingeniería Eléctrica y Electrónica
Palabras clave
Nuevo método
Haz de electrones en lámina
PM-E
Campo electrostático
Campo magnético
Resultados de simulación
Licencia
CC BY-SA – Atribución – Compartir Igual
Consultas: 37
Citaciones: Sin citaciones
En este documento, se propone un nuevo método, llamado PM-E, para enfocar el haz de electrones de lámina (SEB). Este nuevo método consiste en un campo magnético periódico y un campo electrostático, que se utilizan para controlar el grosor y el ancho del SEB, respectivamente. El sistema PM-E utiliza este campo electrostático para reemplazar el campo magnético transversal poco fiable en el PCM que confina el ancho del SEB. Además, la fuerza de enfoque horizontal del sistema PM-E es más uniforme que la del PCM convencional, y la distancia de transición del primero es más corta que la del último. Además, los resultados de la simulación demuestran la capacidad del sistema PM-E para resistir la influencia del error de montaje. Además, en el sistema PM-E, el campo eléctrico se puede cambiar convenientemente para corregir la desviación de la trayectoria del SEB y mejorar la calidad del SEB.
Descripción
En este documento, se propone un nuevo método, llamado PM-E, para enfocar el haz de electrones de lámina (SEB). Este nuevo método consiste en un campo magnético periódico y un campo electrostático, que se utilizan para controlar el grosor y el ancho del SEB, respectivamente. El sistema PM-E utiliza este campo electrostático para reemplazar el campo magnético transversal poco fiable en el PCM que confina el ancho del SEB. Además, la fuerza de enfoque horizontal del sistema PM-E es más uniforme que la del PCM convencional, y la distancia de transición del primero es más corta que la del último. Además, los resultados de la simulación demuestran la capacidad del sistema PM-E para resistir la influencia del error de montaje. Además, en el sistema PM-E, el campo eléctrico se puede cambiar convenientemente para corregir la desviación de la trayectoria del SEB y mejorar la calidad del SEB.