Un matriz de poli(metacrilato de metilo) dopado con espiropirano para aplicaciones de sensores
Autores: Askirka, Valiantsin; Miluski, Piotr; Kochanowicz, Marcin
Idioma: Inglés
Editor: MDPI
Año: 2023
Acceso abierto
Artículo científico
2023
Un matriz de poli(metacrilato de metilo) dopado con espiropirano para aplicaciones de sensores
Categoría
Ingeniería y Tecnología
Subcategoría
Ingeniería Eléctrica y Electrónica
Palabras clave
Spiropirano
PMMA
Sensible a la luz UV
Proceso de relajación
Espectros de absorción
Fotosensible
Licencia
CC BY-SA – Atribución – Compartir Igual
Consultas: 40
Citaciones: Sin citaciones
En este trabajo se presentan las propiedades de isomerización por relajación de un material dinámico fotosensible de poli(metacrilato de metilo) (PMMA) dopado con espiropirano.
Descripción
En este trabajo se presentan las propiedades de isomerización por relajación de un material dinámico fotosensible de poli(metacrilato de metilo) (PMMA) dopado con espiropirano.