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Eficientes técnicas de localización de fallas y análisis de fallos para mejorar el rendimiento de los CI

Autores: Oberai, Ankush; Yuan, Jiann-Shiun

Idioma: Inglés

Editor: MDPI

Año: 2018

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Acceso abierto

Artículo científico
2018

Eficientes técnicas de localización de fallas y análisis de fallos para mejorar el rendimiento de los CI


Categoría

Ingeniería y Tecnología

Subcategoría

Ingeniería Eléctrica y Electrónica

Palabras clave

Aumento
Procesos de dispositivos semiconductores
Rendimiento
Tecnología de diagnóstico de fallas
Localización de fallas
Rendimientos de circuitos integrados

Licencia

CC BY-SA – Atribución – Compartir Igual

Consultas: 33

Citaciones: Sin citaciones


Descripción
Con el aumento en la complejidad de los procesos de dispositivos semiconductores y el aumento en el desafío de satisfacer las altas demandas del mercado, la mejora en el rendimiento se ha convertido en un factor crucial. Descubrir y reaccionar ante problemas de rendimiento que surgen al final de la línea de producción puede causar una pérdida de rendimiento insoportable que conduce a tiempos más largos para llegar al mercado. Por lo tanto, el tiempo y el costo involucrados en el aislamiento de fallas pueden acortarse significativamente al utilizar de manera efectiva la tecnología de diagnóstico de fallas y apoyar mejoras en el rendimiento. Por lo tanto, para el análisis de rendimiento, se ha establecido una red de datos altamente integrada con herramientas de análisis de software para reducir el tiempo de análisis de fallas. Synopsys Avalon, un producto utilizado para la localización de fallas, se describe en este documento, lo que ayuda a lograr mejores rendimientos de circuitos integrados. Este documento también ilustra varias técnicas de localización de fallas para una identificación de problemas más rápida y discute algunas herramientas analíticas como el microscopio de emisión de fotones y el microscopio de emisión de transmisión para una determinación más rápida de fallas en dispositivos.

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