Bipolar resistive switching en nanoestructuras basadas en óxido de hafnio con y sin nanopartículas de níquel
Autores: Otsus, Markus; Merisalu, Joonas; Tarre, Aivar; Peikolainen, Anna-Liisa; Kozlova, Jekaterina; Kukli, Kaupo; Tamm, Aile
Idioma: Inglés
Editor: MDPI
Año: 2022
Acceso abierto
Artículo científico
2022
Bipolar resistive switching en nanoestructuras basadas en óxido de hafnio con y sin nanopartículas de níquel
Categoría
Ingeniería y Tecnología
Subcategoría
Ingeniería Eléctrica y Electrónica
Palabras clave
Investigación
Aditivos
Impurezas
Película delgada dieléctrica
Conmutación resistiva
Nanopartículas de Ni
Licencia
CC BY-SA – Atribución – Compartir Igual
Consultas: 26
Citaciones: Sin citaciones
A medida que la investigación sobre aditivos e impurezas introducidas intencionalmente en películas delgadas dieléctricas para mejorar las memorias de acceso aleatorio basadas en el cambio resistivo (RRAM) continúa ganando impulso, el objetivo del estudio fue evaluar los efectos de nanopartículas de Ni (NPs) pre-sintetizadas químicamente incrustadas en una capa dieléctrica en la estructura general y las propiedades de cambio resistivo.
Descripción
A medida que la investigación sobre aditivos e impurezas introducidas intencionalmente en películas delgadas dieléctricas para mejorar las memorias de acceso aleatorio basadas en el cambio resistivo (RRAM) continúa ganando impulso, el objetivo del estudio fue evaluar los efectos de nanopartículas de Ni (NPs) pre-sintetizadas químicamente incrustadas en una capa dieléctrica en la estructura general y las propiedades de cambio resistivo.