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Bipolar resistive switching en nanoestructuras basadas en óxido de hafnio con y sin nanopartículas de níquel

Autores: Otsus, Markus; Merisalu, Joonas; Tarre, Aivar; Peikolainen, Anna-Liisa; Kozlova, Jekaterina; Kukli, Kaupo; Tamm, Aile

Idioma: Inglés

Editor: MDPI

Año: 2022

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Acceso abierto

Artículo científico
2022

Bipolar resistive switching en nanoestructuras basadas en óxido de hafnio con y sin nanopartículas de níquel


Categoría

Ingeniería y Tecnología

Subcategoría

Ingeniería Eléctrica y Electrónica

Palabras clave

Investigación
Aditivos
Impurezas
Película delgada dieléctrica
Conmutación resistiva
Nanopartículas de Ni

Licencia

CC BY-SA – Atribución – Compartir Igual

Consultas: 26

Citaciones: Sin citaciones


Descripción
A medida que la investigación sobre aditivos e impurezas introducidas intencionalmente en películas delgadas dieléctricas para mejorar las memorias de acceso aleatorio basadas en el cambio resistivo (RRAM) continúa ganando impulso, el objetivo del estudio fue evaluar los efectos de nanopartículas de Ni (NPs) pre-sintetizadas químicamente incrustadas en una capa dieléctrica en la estructura general y las propiedades de cambio resistivo.

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