Proceso sol-gel de transistores de película delgada de SnO dopada con itrio
Autores: Lee, Changmin; Lee, Won-Yong; Lee, Hyunjae; Ha, Seunghyun; Bae, Jin-Hyuk; Kang, In-Man; Kang, Hongki; Kim, Kwangeun; Jang, Jaewon
Idioma: Inglés
Editor: MDPI
Año: 2020
Acceso abierto
Artículo científico
2020
Proceso sol-gel de transistores de película delgada de SnO dopada con itrio
Categoría
Ingeniería y Tecnología
Subcategoría
Ingeniería Eléctrica y Electrónica
Palabras clave
Dopado
Transistores de película delgada
Proceso sol-gel
Propiedades eléctricas
Concentración de portadores
Vacante de oxígeno
Licencia
CC BY-SA – Atribución – Compartir Igual
Consultas: 31
Citaciones: Sin citaciones
Se fabricaron con éxito transistores de película delgada de SnO dopados con Y mediante un proceso sol-gel. Se investigó el efecto de la concentración de Y en las propiedades estructurales, químicas y eléctricas de las películas de SnO procesadas con sol-gel a través de GIXRD, SPM y XPS; también se evaluaron las propiedades de transporte eléctrico correspondientes de la película. El dopante, Y, puede controlar con éxito la concentración de portadores libres al suprimir la formación de vacancias de oxígeno dentro de los semiconductores de SnO debido a su menor electronegatividad y SEP. Con un aumento de Ywt%, se observó que la cristalinidad y la concentración de vacancias de oxígeno disminuyeron, y el modo de operación del transistor de película delgada de SnO cambió de acumulación (normalmente encendido) a modo de mejora (normalmente apagado) con un desplazamiento de V positivo.
Descripción
Se fabricaron con éxito transistores de película delgada de SnO dopados con Y mediante un proceso sol-gel. Se investigó el efecto de la concentración de Y en las propiedades estructurales, químicas y eléctricas de las películas de SnO procesadas con sol-gel a través de GIXRD, SPM y XPS; también se evaluaron las propiedades de transporte eléctrico correspondientes de la película. El dopante, Y, puede controlar con éxito la concentración de portadores libres al suprimir la formación de vacancias de oxígeno dentro de los semiconductores de SnO debido a su menor electronegatividad y SEP. Con un aumento de Ywt%, se observó que la cristalinidad y la concentración de vacancias de oxígeno disminuyeron, y el modo de operación del transistor de película delgada de SnO cambió de acumulación (normalmente encendido) a modo de mejora (normalmente apagado) con un desplazamiento de V positivo.