logo móvil
Contáctanos

Optimización del proceso de máscara dura de carbono amorfo en aplicaciones avanzadas de memoria flash 3D-NAND

Autores: Jiang, Zheng; Zhu, Hao; Sun, Qingqing

Idioma: Inglés

Editor: MDPI

Año: 2021

Descargar PDF

Acceso abierto

Artículo científico
2021

Optimización del proceso de máscara dura de carbono amorfo en aplicaciones avanzadas de memoria flash 3D-NAND


Categoría

Ingeniería y Tecnología

Subcategoría

Ingeniería Eléctrica y Electrónica

Palabras clave

Carbono amorfo
Máscara dura
Velocidad de deposición de película
Uniformidad
Grabado selectivo
Velocidad de grabado en seco

Licencia

CC BY-SA – Atribución – Compartir Igual

Consultas: 31

Citaciones: Sin citaciones


Descripción
Las películas de máscara dura de carbono amorfo (ACHM) son ampliamente utilizadas como máscaras duras de grabado en la memoria flash 3D-NAND, lo que ha planteado mayores requisitos en la velocidad de deposición de la película, transparencia de la película, uniformidad y grabado selectivo. En este trabajo, el procesamiento de la película ACHM se ha desarrollado y optimizado mediante el estudio comparativo de acetileno (CH) y propileno (CH) como fuentes de carbono a diferentes temperaturas de 300 grados Celsius, 350 grados Celsius y 400 grados Celsius.

Otros recursos que podrían interesarte

Temas Virtualpro