Optimización del proceso de máscara dura de carbono amorfo en aplicaciones avanzadas de memoria flash 3D-NAND
Autores: Jiang, Zheng; Zhu, Hao; Sun, Qingqing
Idioma: Inglés
Editor: MDPI
Año: 2021
Acceso abierto
Artículo científico
2021
Optimización del proceso de máscara dura de carbono amorfo en aplicaciones avanzadas de memoria flash 3D-NAND
Categoría
Ingeniería y Tecnología
Subcategoría
Ingeniería Eléctrica y Electrónica
Palabras clave
Carbono amorfo
Máscara dura
Velocidad de deposición de película
Uniformidad
Grabado selectivo
Velocidad de grabado en seco
Licencia
CC BY-SA – Atribución – Compartir Igual
Consultas: 31
Citaciones: Sin citaciones
Las películas de máscara dura de carbono amorfo (ACHM) son ampliamente utilizadas como máscaras duras de grabado en la memoria flash 3D-NAND, lo que ha planteado mayores requisitos en la velocidad de deposición de la película, transparencia de la película, uniformidad y grabado selectivo. En este trabajo, el procesamiento de la película ACHM se ha desarrollado y optimizado mediante el estudio comparativo de acetileno (CH) y propileno (CH) como fuentes de carbono a diferentes temperaturas de 300 grados Celsius, 350 grados Celsius y 400 grados Celsius.
Descripción
Las películas de máscara dura de carbono amorfo (ACHM) son ampliamente utilizadas como máscaras duras de grabado en la memoria flash 3D-NAND, lo que ha planteado mayores requisitos en la velocidad de deposición de la película, transparencia de la película, uniformidad y grabado selectivo. En este trabajo, el procesamiento de la película ACHM se ha desarrollado y optimizado mediante el estudio comparativo de acetileno (CH) y propileno (CH) como fuentes de carbono a diferentes temperaturas de 300 grados Celsius, 350 grados Celsius y 400 grados Celsius.