Este artículo presenta un método ablativo para cortar máscaras de láminas de metal ultrafinas utilizando pulsos láser de nanosegundos. Como fuente de radiación láser, se utilizó un láser de fibra pulsado con una longitud de onda de 1062 nm y duración de pulsos de 15 a 220 nanosegundos (ns) en la investigación. Las máscaras estaban hechas de lámina de acero inoxidable con espesores de 30 um, 35 um y 120 um. Se probaron canales de diferentes longitudes de 50 a 300 um. Se describen las posibilidades y limitaciones del método presentado. Se realizó la optimización de los parámetros del proceso de corte utilizando técnicas de planificación experimental. Se utilizó un plan estático completo determinado de dos niveles (SP/DC 2). Sobre la base del análisis de las estructuras de prueba, diseñamos y producimos máscaras de sombreado precisas utilizadas en el proceso de evaporación de electrodos de transistores de efecto de campo orgánico (OFET). El método ablativo demostró ser adecuado para producir máscaras con canales de longitudes mínimas de 70 um. Ofrece una fabricación de máscaras de sombra fácil, rápida y económicamente viable para aplicaciones de electrónica orgánica, que además podría permitir una rápida prototipado y diseño de circuitos.