El diamante necesita tener una superficie perfectamente lisa debido a los crecientes requisitos en los campos de los semiconductores electrónicos, ventanas ópticas y altavoces de alta fidelidad. Sin embargo, el pulido de diamantes es altamente desafiante debido a su excepcional dureza y estabilidad química. En este estudio, se prepara una nueva suspensión de pulido para el enfoque propuesto de pulido químico mecánico asistido por fotocatálisis (PCMP) para obtener una superficie ultra lisa para diamantes de gran área. Los análisis y hallazgos experimentales revelaron la importancia del fotocatalizador, el abrasivo, el agente captador de electrones y el regulador de pH como componentes esenciales de la suspensión PCMP. TiO con un tamaño de poro de 5 nm y P25 TiO poseen una eficiencia de fotocatálisis mejorada. Además, la eliminación de diamante es suave en el ambiente ácido de HPO debido al alto potencial de oxidación-reducción (ORP) de la suspensión, y, durante la prueba de naranja metílica, P25 TiO exhibe efectos fotocatalíticos razonables. Además, en 8 horas, se puede obtener una superficie lisa libre de rayones mecánicos al reducir la rugosidad superficial de Ra 33.6 nm a Ra 2.6 nm.