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Modelado del Movimiento de Partículas durante la Implantación Abrasiva Electroestática de Alto Voltaje Basado en el Acoplamiento de Campos Multifísicos

Autores: Zheng, Huifeng; Wang, Wenjie; Gong, Liang; Chen, Ge

Idioma: Inglés

Editor: MDPI

Año: 2022

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Acceso abierto

Artículo científico
2022

Modelado del Movimiento de Partículas durante la Implantación Abrasiva Electroestática de Alto Voltaje Basado en el Acoplamiento de Campos Multifísicos


Categoría

Tecnología de Equipos y Accesorios

Subcategoría

Diseño de equipos y herramientas

Palabras clave

Implantación electrostática
Proceso acoplado multifísico
Modelo de simulación
Separación de placas de polo
Voltaje

Licencia

CC BY-SA – Atribución – Compartir Igual

Consultas: 15

Citaciones: Sin citaciones


Descripción
La tecnología de implantación abrasiva electrostática es un proceso clásico basado en el campo electrostático para implantar partículas abrasivas en el material base. Sin embargo, aún no existe un modelo cuantitativo que garantice el rendimiento de la implantación debido a que la implantación abrasiva electrostática es un proceso acoplado de múltiples físicas complejo. Para asegurar la calidad del papel de lija y elucidar el complejo mecanismo de movimiento de las partículas abrasivas basadas en AlO en un campo electrostático de alta tensión, se propone un modelo de simulación de acoplamiento de campos multifísicos. Primero, se construye el modelo mecánico para el complejo problema del proceso de implantación abrasiva electrostática. Luego, se establece el modelo de campo para el problema de que la superposición de campos multifísicos conduce a condiciones ambientales complicadas. Finalmente, se establece el modelo de evaluación para los problemas de que el efecto de la plantación abrasiva es difícil de evaluar y los parámetros de plantación son difíciles de ajustar. Además, se diseña un equipo de prueba de plantación abrasiva electrostática a medida con el propósito de análisis del rendimiento de la implantación. Se realizaron experimentos de plantación abrasiva electrostática de un solo parámetro para analizar y verificar el efecto de diferentes voltajes de placa de polo y espacios entre placas de polo en la tasa de implantación abrasiva. Para asegurar el rendimiento de la implantación, el espacio entre placas de polo aplicable varía de 30 mm a 50 mm y el voltaje adecuado es de 20-40 kV según el resultado de la simulación en los dos modelos propuestos. Mientras tanto, la experimentación de la tasa de implantación muestra que el modelo de campo acoplado coincide mejor con los experimentos. Se identifican los factores clave que afectan el proceso de plantación abrasiva electrostática y se propone un modelo de simulación de movimiento de partículas abrasivas acoplado de múltiples físicas factible.

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