Un mejorado plasticidad sináptica de transistores controlados por electrolitos a través de la dopaje de tungsteno de un semiconductor de óxido
Autores: Xie, Dongyu; Liang, Xiaoci; Geng, Di; Wu, Qian; Liu, Chuan
Idioma: Inglés
Editor: MDPI
Año: 2024
Acceso abierto
Artículo científico
2024
Un mejorado plasticidad sináptica de transistores controlados por electrolitos a través de la dopaje de tungsteno de un semiconductor de óxido
Categoría
Ingeniería y Tecnología
Subcategoría
Ingeniería Eléctrica y Electrónica
Palabras clave
óxido
Transistores controlados por electrolitos
Dopaje de tungsteno
Ventana de memoria
Conductancia
Plasticidad sináptica
Licencia
CC BY-SA – Atribución – Compartir Igual
Consultas: 33
Citaciones: Sin citaciones
Los transistores con electrolito de óxido han demostrado la capacidad de emular varias funciones sinápticas, pero aún requieren un voltaje de compuerta alto para formar plasticidad a largo plazo. Aquí, estudiamos transistores con electrolito de óxido basados en InO con dopaje de tungsteno (W-InO). Cuando la proporción de tungsteno a indio aumentó del 0% al 7,6%, la ventana de memoria de la curva de transferencia aumentó de 0,2 V a 2 V en un pequeño rango de barrido de -2 V a 2,5 V. Bajo 50 pulsos con un ciclo de trabajo del 2%, la conductancia del transistor aumentó de 40 veces a 30,000 veces. Además, el transistor W-InO mostró una facilitación de pulsos emparejados mejorada y pasó con éxito la prueba pavloviana después del entrenamiento. La formación de WO dentro de InO y su intercalación iónica en el canal pueden explicar la plasticidad sináptica mejorada.
Descripción
Los transistores con electrolito de óxido han demostrado la capacidad de emular varias funciones sinápticas, pero aún requieren un voltaje de compuerta alto para formar plasticidad a largo plazo. Aquí, estudiamos transistores con electrolito de óxido basados en InO con dopaje de tungsteno (W-InO). Cuando la proporción de tungsteno a indio aumentó del 0% al 7,6%, la ventana de memoria de la curva de transferencia aumentó de 0,2 V a 2 V en un pequeño rango de barrido de -2 V a 2,5 V. Bajo 50 pulsos con un ciclo de trabajo del 2%, la conductancia del transistor aumentó de 40 veces a 30,000 veces. Además, el transistor W-InO mostró una facilitación de pulsos emparejados mejorada y pasó con éxito la prueba pavloviana después del entrenamiento. La formación de WO dentro de InO y su intercalación iónica en el canal pueden explicar la plasticidad sináptica mejorada.