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Un mejorado plasticidad sináptica de transistores controlados por electrolitos a través de la dopaje de tungsteno de un semiconductor de óxido

Autores: Xie, Dongyu; Liang, Xiaoci; Geng, Di; Wu, Qian; Liu, Chuan

Idioma: Inglés

Editor: MDPI

Año: 2024

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Acceso abierto

Artículo científico
2024

Un mejorado plasticidad sináptica de transistores controlados por electrolitos a través de la dopaje de tungsteno de un semiconductor de óxido


Categoría

Ingeniería y Tecnología

Subcategoría

Ingeniería Eléctrica y Electrónica

Palabras clave

óxido
Transistores controlados por electrolitos
Dopaje de tungsteno
Ventana de memoria
Conductancia
Plasticidad sináptica

Licencia

CC BY-SA – Atribución – Compartir Igual

Consultas: 33

Citaciones: Sin citaciones


Descripción
Los transistores con electrolito de óxido han demostrado la capacidad de emular varias funciones sinápticas, pero aún requieren un voltaje de compuerta alto para formar plasticidad a largo plazo. Aquí, estudiamos transistores con electrolito de óxido basados en InO con dopaje de tungsteno (W-InO). Cuando la proporción de tungsteno a indio aumentó del 0% al 7,6%, la ventana de memoria de la curva de transferencia aumentó de 0,2 V a 2 V en un pequeño rango de barrido de -2 V a 2,5 V. Bajo 50 pulsos con un ciclo de trabajo del 2%, la conductancia del transistor aumentó de 40 veces a 30,000 veces. Además, el transistor W-InO mostró una facilitación de pulsos emparejados mejorada y pasó con éxito la prueba pavloviana después del entrenamiento. La formación de WO dentro de InO y su intercalación iónica en el canal pueden explicar la plasticidad sináptica mejorada.

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