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Integración vertical de diodos láser de nitruro y diodos emisores de luz mediante uniones de túnel

Autores: Siekacz, Marcin; Muziol, Grzegorz; Turski, Henryk; Hajdel, Mateusz; ak, Mikolaj; Chlipaa, Mikolaj; Sawicka, Marta; Nowakowski-Szkudlarek, Krzesimir; Feduniewicz-muda, Anna; Smalc-Koziorowska, Julita; Stanczyk, Szymon; Skierbiszewski, Czeslaw

Idioma: Inglés

Editor: MDPI

Año: 2020

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Acceso abierto

Artículo científico
2020

Integración vertical de diodos láser de nitruro y diodos emisores de luz mediante uniones de túnel


Categoría

Ingeniería y Tecnología

Subcategoría

Ingeniería Eléctrica y Electrónica

Palabras clave

Aplicaciones
Uniones de túnel
LED
Diodo láser
Tecnología PAMBE
InGaN

Licencia

CC BY-SA – Atribución – Compartir Igual

Consultas: 34

Citaciones: Sin citaciones


Descripción
Demostramos las aplicaciones de las uniones de túnel (TJs) para nuevos conceptos de pilas de diodos emisores de luz (LED) y diodos láser (LD) monocristalinos basados en nitruro. Las estructuras presentadas fueron crecidas por epitaxia de haces moleculares asistida por plasma (PAMBE) en cristales masivos de GaN. Demostramos una pila de cuatro LDs operados en modo de pulso con longitud de onda de emisión de 453 nm. Se logra una potencia de salida de 1.1 W y una alta eficiencia de pendiente de 2.3 W/A para dispositivos sin espejos dieléctricos. La superficie plana atómicamente después de la epitaxia de la pila de cuatro LD y la baja densidad de dislocación se mide como resultado de un diseño adecuado de TJ con nivel de dopaje optimizado. Se muestra que el diseño de compensación de tensión con guías de onda de InGaN y recubrimientos de AlGaN es crucial para evitar la agrietamiento y la relajación de la red de la estructura de 5 um de grosor. La conexión vertical de n-LDs permite la emisión en cascada de fotones y aumenta la eficiencia cuántica n veces. Se demuestran LED de dos colores (azul y verde). La aplicación de TJs simplifica el procesamiento del dispositivo, reduciendo la necesidad de aplicaciones de contacto de tipo. El factor clave que permite la demostración de tales dispositivos es la tecnología PAMBE libre de hidrógeno, en la cual la activación de las capas de tipo enterradas no es necesaria.

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