logo móvil
Contáctanos

Impactos de la degradación del óxido de puerta de SiC-MOSFET en inversores de corriente y voltaje trifásicos

Autores: Kim, Jaechang; Kwak, Sangshin; Choi, Seungdeog

Idioma: Inglés

Editor: MDPI

Año: 2022

Descargar PDF

Acceso abierto

Artículo científico
2022

Impactos de la degradación del óxido de puerta de SiC-MOSFET en inversores de corriente y voltaje trifásicos


Categoría

Tecnología de Equipos y Accesorios

Subcategoría

Diseño de equipos y herramientas

Palabras clave

Degradación del óxido de puerta
MOSFETs de SiC
Inversores de fuente de voltaje
Inversores de fuente de corriente
Retrasos de encendido y apagado
Variaciones en el rendimiento

Licencia

CC BY-SA – Atribución – Compartir Igual

Consultas: 25

Citaciones: Sin citaciones


Descripción
En este artículo, se estudian las variaciones de rendimiento de los inversores de fuente de voltaje y de corriente basados en MOSFET de SiC bajo la degradación del óxido de puerta. Se confirma que los retrasos de encendido y apagado de los MOSFET de SiC cambian significativamente debido al estrés de alto campo eléctrico, lo que acelera la degradación del óxido de puerta. Las variaciones en los retrasos de encendido y apagado de los dispositivos de conmutación extienden o reducen el error de ciclo de trabajo de los inversores de fuente de voltaje y de corriente. Las variaciones de rendimiento del inversor de fuente de voltaje y de corriente debido a los cambios en el error de ciclo de trabajo causados por la degradación del óxido de puerta se analizan a través de simulaciones. Como resultado, la degradación del óxido de puerta empeora el rendimiento del inversor de fuente de voltaje. Además, la degradación negativa del óxido de puerta, que disminuye la tensión umbral, reduce el rendimiento del inversor de fuente de corriente.

Otros recursos que podrían interesarte

Temas Virtualpro