Se reacondicionó una fuente de arco de cátodo hueco calentada externamente en UCLA para su uso en experimentos para impulsar campos de plasma wakefield con haces moldeados en el Acelerador Wakefield de Argonne. La fuente de arco de cátodo hueco proporciona una columna de plasma robusta con una densidad en el rango de - cm, mientras que el calentamiento externo del cátodo permite acceder al régimen de arco de plasma con voltajes aplicados de hasta 20 V. Se describen los principios de funcionamiento generales de la fuente, junto con mediciones de corriente de plasma en tiempo resuelto y caracterización de la densidad de plasma mediante el uso de una sonda Langmuir triple. Los resultados muestran que se pueden alcanzar densidades de plasma relevantes que coinciden con los parámetros del haz de la instalación.