La propagación de gotas es un fenómeno fascinante. Especialmente cuando la gota se extiende, reacciona y se disuelve en y sobre sustratos metálicos. Este humectado reactivo ocurre principalmente a altas temperaturas, con un gran número de aplicaciones en la industria y la ciencia de materiales. Es común monitorear y estudiar el proceso utilizando una proyección lateral de la gota, enfocándose en la dinámica y la forma de su línea de contacto. Sin embargo, cuando la propagación se monitorea desde una vista superior, se revelan patrones espaciotemporales ricos y no triviales durante diferentes etapas del proceso. Estos patrones requieren un tipo diferente de estudio del perímetro de toda la gota. La física estadística es la candidata natural para realizar tales tareas, utilizando herramientas desarrolladas para el estudio del rugosidad cinética de interfaces avanzadas. En esta revisión, demostramos el uso de estas herramientas, los exponentes de crecimiento, rugosidad y persistencia, para estudiar la propagación de gotas de mercurio sobre metal y vidrio a temperatura ambiente, que por sí mismo es un sistema experimental único en este rango de temperaturas. Se discute la universalidad de los resultados en comparación con patrones similares de humectación reactiva a altas temperaturas.