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Siguiendo el camino del escritor hacia el patrón de diseño de cadenas reactivas dinámicamente coalescentes

Autores: Oliveira Marum, João Paulo; Cunningham, H. Conrad; Jones, J. Adam; Liu, Yi

Idioma: Inglés

Editor: MDPI

Año: 2024

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Acceso abierto

Artículo científico
2024

Siguiendo el camino del escritor hacia el patrón de diseño de cadenas reactivas dinámicamente coalescentes


Categoría

Ingeniería y Tecnología

Subcategoría

Ingeniería de Software

Palabras clave

Estudios
Turbulencia transicional
Aplicaciones
Enfoques de solución
Patrón de diseño de software
Metodología del camino del escritor

Licencia

CC BY-SA – Atribución – Compartir Igual

Consultas: 35

Citaciones: Sin citaciones


Descripción
Dos estudios recientes abordaron el problema de reducir la turbulencia transicional en aplicaciones desarrolladas en C# en .NET. El primer estudio investigó este problema en aplicaciones de GUI de escritorio y web, y el segundo en aplicaciones de realidad virtual y aumentada utilizando el motor de juegos Unity3D. Los estudios utilizaron enfoques de solución similares, pero ambos estaban algo incrustados en los detalles de sus aplicaciones y plataformas de implementación. Este documento examina estas dos familias de aplicaciones y busca extraer los aspectos comunes de sus definiciones de problemas y enfoques de solución y codificar el par problema-solución como un nuevo patrón de diseño de software. Para hacerlo, el documento adopta la metodología del camino del escritor de Wellhausen y Fiesser y la sigue sistemáticamente para descubrir y escribir el patrón, registrando el razonamiento en cada paso. Para evaluar el patrón, el documento lo aplica a una aplicación GUI arbitraria en C#/.NET. El patrón de diseño resultante se llama (). Permite que el enfoque de reducción de turbulencia transicional se reutilice en una variedad de aplicaciones relacionadas, lenguajes y tecnologías de interfaz de usuario. El ejemplo detallado del camino del escritor puede ayudar a los futuros escritores de patrones a navegar a través de las complicaciones y sutilezas del proceso de escritura de patrones.

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