Evaluación de ruido de baja frecuencia en MOSFETs utilizados como componente clave en dispositivos de memoria semiconductores
Autores: Teramoto, Akinobu
Idioma: Inglés
Editor: MDPI
Año: 2021
Acceso abierto
Artículo científico
2021
Evaluación de ruido de baja frecuencia en MOSFETs utilizados como componente clave en dispositivos de memoria semiconductores
Categoría
Ingeniería y Tecnología
Subcategoría
Ingeniería Eléctrica y Electrónica
Palabras clave
Métodos de evaluación
Ruido de baja frecuencia
MOSFETs
Variabilidad
Fluctuación
Análisis estadístico
Licencia
CC BY-SA – Atribución – Compartir Igual
Consultas: 43
Citaciones: Sin citaciones
Los métodos para evaluar el ruido de baja frecuencia, como el ruido 1/f y el ruido telegráfico aleatorio, y los resultados de la evaluación se describen. La variabilidad y la fluctuación son críticas en dispositivos semiconductores miniaturizados porque el voltaje de la señal debe reducirse en tales dispositivos. Especialmente, el voltaje de la señal en memorias de varios bits debe ser pequeño. Uno de los problemas más serios en transistores de efecto de campo de óxido de metal-semiconductor (MOSFET) es el ruido de baja frecuencia, que ocurre cuando la corriente de señal fluye en la interfaz de diferentes materiales, como SiO/Si. La variabilidad del ruido de baja frecuencia aumenta con la reducción de MOSFET. Para evaluar el efecto de este ruido en los MOSFET, primero debemos entender sus características estadísticamente, y luego, se deben evaluar con precisión suficientes muestras en un corto período de tiempo. Este estudio compara los métodos de evaluación estadística del ruido de baja frecuencia con la tendencia de los métodos de evaluación convencionales, y se presentan los hallazgos de este estudio.
Descripción
Los métodos para evaluar el ruido de baja frecuencia, como el ruido 1/f y el ruido telegráfico aleatorio, y los resultados de la evaluación se describen. La variabilidad y la fluctuación son críticas en dispositivos semiconductores miniaturizados porque el voltaje de la señal debe reducirse en tales dispositivos. Especialmente, el voltaje de la señal en memorias de varios bits debe ser pequeño. Uno de los problemas más serios en transistores de efecto de campo de óxido de metal-semiconductor (MOSFET) es el ruido de baja frecuencia, que ocurre cuando la corriente de señal fluye en la interfaz de diferentes materiales, como SiO/Si. La variabilidad del ruido de baja frecuencia aumenta con la reducción de MOSFET. Para evaluar el efecto de este ruido en los MOSFET, primero debemos entender sus características estadísticamente, y luego, se deben evaluar con precisión suficientes muestras en un corto período de tiempo. Este estudio compara los métodos de evaluación estadística del ruido de baja frecuencia con la tendencia de los métodos de evaluación convencionales, y se presentan los hallazgos de este estudio.