Efecto del ambiente de recocido en transistores de película delgada de SnO fabricados a través de una ruta sol-gel a base de etanol
Autores: Lee, Hyunjae; Ha, Seunghyun; Bae, Jin-Hyuk; Kang, In-Man; Kim, Kwangeun; Lee, Won-Yong; Jang, Jaewon
Idioma: Inglés
Editor: MDPI
Año: 2019
Acceso abierto
Artículo científico
2019
Efecto del ambiente de recocido en transistores de película delgada de SnO fabricados a través de una ruta sol-gel a base de etanol
Categoría
Ingeniería y Tecnología
Subcategoría
Ingeniería Eléctrica y Electrónica
Palabras clave
Efecto
Ambiente de recocido
Transistores de película delgada de SnO
Ruta sol-gel
Movilidad de campo de efecto
Tamaño de grano cristalino
Licencia
CC BY-SA – Atribución – Compartir Igual
Consultas: 22
Citaciones: Sin citaciones
El efecto del ambiente de recocido en los transistores de película delgada de SnO (TFTs) fabricados a través de una ruta sol-gel a base de etanol fue investigado. El ambiente de recocido tiene un efecto significativo en las características estructurales y composición química y, a su vez, en el rendimiento del dispositivo. Aunque el tamaño del grano cristalino de las películas de SnO recocidas en aire fue el más pequeño, este tamaño produjo la mayor movilidad de campo de efecto. En comparación con la minimización de la dispersión en los límites a través del aumento del tamaño cristalino, el aumento de la concentración de portadores libres jugó un papel más crítico en la realización de dispositivos de alto rendimiento. Los TFTs de SnO fabricados presentaron una movilidad de campo de efecto, una pendiente subumbral y una relación corriente de encendido/apagado de 10.87 cm/Vs, 0.87 V/década y 10, respectivamente.
Descripción
El efecto del ambiente de recocido en los transistores de película delgada de SnO (TFTs) fabricados a través de una ruta sol-gel a base de etanol fue investigado. El ambiente de recocido tiene un efecto significativo en las características estructurales y composición química y, a su vez, en el rendimiento del dispositivo. Aunque el tamaño del grano cristalino de las películas de SnO recocidas en aire fue el más pequeño, este tamaño produjo la mayor movilidad de campo de efecto. En comparación con la minimización de la dispersión en los límites a través del aumento del tamaño cristalino, el aumento de la concentración de portadores libres jugó un papel más crítico en la realización de dispositivos de alto rendimiento. Los TFTs de SnO fabricados presentaron una movilidad de campo de efecto, una pendiente subumbral y una relación corriente de encendido/apagado de 10.87 cm/Vs, 0.87 V/década y 10, respectivamente.