En este estudio, se investigaron los efectos de varios dispositivos de pretratamiento de humedad (MPD) en el proceso analítico de tricloroetileno (TCE) y óxido nitroso (NO), que son compuestos orgánicos e inorgánicos representativos emitidos por las industrias de semiconductores. Se evaluaron tres tipos de MPD: un KPASS (MPD_K), un secador Nafion(tm) (MPD_N) y un enfriador (MPD_C) por su rendimiento bajo condiciones de gas de muestra de 25 grados C y 150 grados C a varios caudales. También se llevó a cabo una modificación del MPD para mejorar su rendimiento a altas capacidades de carga. Los resultados indicaron que la humedad introdujo un sesgo significativo en la medición de TCE y NO según los analizadores explorados en este estudio. A un caudal de 1 L/min, entre los MPD, el MPD_N mostró la mayor eficiencia de eliminación de humedad, seguido por el MPD_K y el MPD_C. En términos de tasas de recuperación de analitos, el MPD_K logró la mayor recuperación de TCE, seguido por el MPD_N y el MPD_C, en todas las condiciones probadas. Por el contrario, el MPD_C resultó en las tasas de recuperación de NO más bajas, mientras que el MPD_K y el MPD_N mantuvieron tasas de recuperación superiores al 95%. A un caudal de 4 L/min, el MPD_N y el MPD_C no funcionaron a altas temperaturas. En contraste, el MPD_K modificado, que recibió menos inversión en comparación con muchas otras membranas, mostró una eficiencia de eliminación de humedad aceptable (>85%) y recuperación de analitos (>98%). Por lo tanto, se recomienda el KPASS modificado como un dispositivo útil de pretratamiento de humedad para el proceso analítico de TCE y NO tanto a capacidades de carga normales como altas.