El procesamiento térmico rápido de una oblea (RTP) se utiliza ampliamente en la fabricación de semiconductores. Lograr uniformidad de temperatura en la oblea de silicio es un desafío importante en el control de RTP. En este trabajo, se diseña una configuración de lámparas que incluye cinco zonas de lámparas concéntricas para obtener una distribución uniforme de temperatura en la oblea. Se desarrolla un modelo basado en óptica para determinar los parámetros de diseño óptimos de la lámpara, y se propone un criterio de uniformidad para evaluar la distribución efectiva de irradiancia de las lámparas de tungsteno-halógeno en la oblea. Este método se puede utilizar para determinar los parámetros geométricos del conjunto de lámparas con el fin de lograr una distribución uniforme de temperatura en la oblea. Se realiza una simulación realista de un sistema de RTP de pared fría con cinco anillos de lámparas y una oblea de 200 mm. El modelo propuesto allana el camino para un método simple para determinar los parámetros de diseño óptimos de la lámpara en sistemas de RTP.