Se diseñó una fuente de alimentación de pulso bidireccional con parámetros ajustables continuamente hacia adelante de 8 V/20 A y hacia atrás de 20 V/50 A utilizando DSP (Procesador de Señal Digital), y se utilizó la fuente de alimentación de pulso bidireccional para probar el plateado de cobre en placas de circuito impreso con agujeros llenos. Los efectos de las frecuencias, las relaciones de ancho de pulso de las corrientes hacia adelante y hacia atrás, y las densidades de corriente en el efecto del plateado de cobre fueron investigados mediante el método de variable única y se compararon con el plateado de cobre de corriente continua. Los resultados experimentales mostraron que en comparación con la fuente de alimentación de corriente continua, la fuente de alimentación de pulso bidireccional tuvo un mejor efecto y una velocidad más rápida en el plateado de cobre de llenado de agujeros, y también puede reducir el uso de aditivos, lo cual está en línea con el desarrollo sostenible. Los parámetros del pulso afectaron el efecto del plateado en diferentes grados. En este sistema de solución, los parámetros óptimos para el plateado de pulso bidireccional son frecuencia de 1 kHz, densidad de corriente de pulso hacia adelante de 4 ASD (Amperio por Decímetro Cuadrado) con un ciclo de trabajo del 50%, y densidad de corriente de pulso hacia atrás de 16 ASD con un ciclo de trabajo del 2.5%.