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Las características de los fototransistores ultravioleta de óxido de aluminio-galio-zinc por el método de co-sputtering

Autores: Huang, Wei-Lun; Chang, Sheng-Po; Li, Cheng-Hao; Chang, Shoou-Jinn

Idioma: Inglés

Editor: MDPI

Año: 2021

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Acceso abierto

Artículo científico
2021

Las características de los fototransistores ultravioleta de óxido de aluminio-galio-zinc por el método de co-sputtering


Categoría

Ingeniería y Tecnología

Subcategoría

Ingeniería Eléctrica y Electrónica

Palabras clave

Aluminio
Galio
óxido de zinc
Transistores
Brecha de banda
Potencia de pulverización

Licencia

CC BY-SA – Atribución – Compartir Igual

Consultas: 38

Citaciones: Sin citaciones


Descripción
En esta tesis, se investigan transistores de película delgada fotográfica de óxido de aluminio-galio-cinc (AGZO) fabricados mediante el método de co-sputtering. La transmitancia y absorción muestran que el AGZO es altamente transparente en la región de luz visible, y la banda prohibida del AGZO puede ajustarse variando la potencia de co-sputtering. El TFT de AGZO demuestra un alto rendimiento con un voltaje umbral (V) de 0.96 V, una relación de corriente de encendido/apagado de 1.01 x 10, y una pendiente subumbral (SS) de 0.33 V/dec. Además, el AGZO tiene potencial para aplicaciones de ceguera solar debido a su amplia banda prohibida. El PTFT de AGZO de esta investigación puede lograr una relación de rechazo de 4.31 x 10 con la potencia de sputtering adecuada y un tiempo de subida y caída de 35.5 s y 51.5 s.

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