logo móvil
Contáctanos

Características de descarga electrostática de SiGe Source/Drain PNN Tunnel FET

Autores: Wang, You; Mao, Yu; Ji, Qizheng; Yang, Ming; Yang, Zhaonian; Lin, Hai

Idioma: Inglés

Editor: MDPI

Año: 2021

Descargar PDF

Acceso abierto

Artículo científico
2021

Características de descarga electrostática de SiGe Source/Drain PNN Tunnel FET


Categoría

Ingeniería y Tecnología

Subcategoría

Ingeniería Eléctrica y Electrónica

Palabras clave

Puerta
Transistores de efecto campo de túnel
Protección ESD
SiGe Source/Drain PNN
Resultados de simulación
Voltaje de activación

Licencia

CC BY-SA – Atribución – Compartir Igual

Consultas: 32

Citaciones: Sin citaciones


Descripción
Los transistores de efecto de campo de túnel con compuerta conectada a tierra (ggTFETs) se consideran dispositivos básicos de protección contra descargas electrostáticas (ESD) en circuitos integrados con TFET. El método de prueba de ESD de pulso de línea de transmisión se utiliza para analizar en profundidad las características de corriente y el mecanismo de trabajo del impacto de ESD del TFET convencional. Sobre esta base, se propuso un transistor de efecto de campo de túnel (TFET) SiGe Fuente/Drenaje PNN (P+N+N+), que fue simulado por el software de diseño asistido por computadora (TCAD) de tecnología Sentaurus. Los resultados de la simulación mostraron que el voltaje de activación del TFET SiGe PNN era un 46.3% menor, y la corriente de falla un 13.3% mayor que la del TFET convencional. Después de analizar los resultados de la simulación, se optimizaron los parámetros del TFET SiGe PNN. Se analizó y explicó la única ruta de corriente del TFET SiGe PNN en el caso de conexión a tierra de la compuerta.

Otros recursos que podrían interesarte

Temas Virtualpro