El aprendizaje profundo en la extracción de fase de la interferometría electrónica de patrones de speckle
Autores: Jiang, Wenbo; Ren, Tong; Fu, Qianhua
Idioma: Inglés
Editor: MDPI
Año: 2024
Acceso abierto
Artículo científico
2024
El aprendizaje profundo en la extracción de fase de la interferometría electrónica de patrones de speckle
Categoría
Ingeniería y Tecnología
Subcategoría
Ingeniería Eléctrica y Electrónica
Palabras clave
Interferometría electrónica de patrón de speckle
Aprendizaje profundo
Extracción de fase
Patrones de franjas
Mapas de fase envueltos
Procesamiento de imágenes
Licencia
CC BY-SA – Atribución – Compartir Igual
Consultas: 36
Citaciones: Sin citaciones
La interferometría electrónica de patrón de speckle (ESPI) se utiliza ampliamente en campos como la ciencia de materiales, la investigación biomédica, el análisis de morfología de superficies y la inspección de componentes ópticos debido a su alta precisión de medición, amplio rango de frecuencia y facilidad de medición.
Descripción
La interferometría electrónica de patrón de speckle (ESPI) se utiliza ampliamente en campos como la ciencia de materiales, la investigación biomédica, el análisis de morfología de superficies y la inspección de componentes ópticos debido a su alta precisión de medición, amplio rango de frecuencia y facilidad de medición.