Análisis microestructural y de rayos X por dispersión de energía en implantes de iones de argón en películas delgadas de tantalio para sustratos microelectrónicos
Autores: Ramezani, Amir Hoshang; Hoseinzadeh, Siamak; Ebrahiminejad, Zhaleh; Sangashekan, Milad; Memon, Saim
Idioma: Inglés
Editor: MDPI
Año: 2021
Acceso abierto
Artículo científico
2021
Análisis microestructural y de rayos X por dispersión de energía en implantes de iones de argón en películas delgadas de tantalio para sustratos microelectrónicos
Categoría
Ingeniería y Tecnología
Subcategoría
Ingeniería Eléctrica y Electrónica
Palabras clave
Propiedades microestructurales
Estadísticas
Argón ion implantado
Película delgada
Resistencia a la corrosión
Análisis fractal
Licencia
CC BY-SA – Atribución – Compartir Igual
Consultas: 35
Citaciones: Sin citaciones
En el presente estudio, se investigan las propiedades microestructurales y estadísticas de las estructuras superficiales de películas delgadas basadas en tantalio no implantadas en comparación con las implantadas con iones de argón para su posible aplicación en sustratos de películas delgadas microelectrónicas.
Descripción
En el presente estudio, se investigan las propiedades microestructurales y estadísticas de las estructuras superficiales de películas delgadas basadas en tantalio no implantadas en comparación con las implantadas con iones de argón para su posible aplicación en sustratos de películas delgadas microelectrónicas.