Alta caracterización de alto rendimiento de MoS de una sola capa crecido epitaxialmente
Autores: Ghasemi, Foad; Frisenda, Riccardo; Dumcenco, Dumitru; Kis, Andras; Perez de Lara, David; Castellanos-Gomez, Andres
Idioma: Inglés
Editor: MDPI
Año: 2017
Acceso abierto
Artículo científico
2017
Alta caracterización de alto rendimiento de MoS de una sola capa crecido epitaxialmente
Categoría
Ingeniería y Tecnología
Subcategoría
Ingeniería Eléctrica y Electrónica
Palabras clave
Crecimiento
Monocapa
MoS
Deposición química en fase vapor
Propiedades ópticas
Cristalitos
Licencia
CC BY-SA – Atribución – Compartir Igual
Consultas: 27
Citaciones: Sin citaciones
El crecimiento de MoS de una sola capa con deposición química de vapor es un método establecido que puede producir muestras de gran área y alta calidad. En este artículo, investigamos las propiedades geométricas y ópticas de cientos de cristales individuales de MoS de una sola capa crecidos en un sustrato de zafiro altamente pulido. La mayoría de los cristales están orientados a lo largo de las terrazas del sustrato de zafiro y tienen un área comprendida entre 10 um y 60 um. Las medidas de reflectancia diferencial realizadas en estos cristales muestran que el área de los cristales de MoS tiene influencia en la posición y el ensanchamiento del excitón B, mientras que la orientación no influye en los excitones A y B de MoS. Estas medidas demuestran que las medidas de reflectancia diferencial tienen el potencial de ser utilizadas para caracterizar la homogeneidad de muestras de gran área crecidas por deposición química de vapor (CVD).
Descripción
El crecimiento de MoS de una sola capa con deposición química de vapor es un método establecido que puede producir muestras de gran área y alta calidad. En este artículo, investigamos las propiedades geométricas y ópticas de cientos de cristales individuales de MoS de una sola capa crecidos en un sustrato de zafiro altamente pulido. La mayoría de los cristales están orientados a lo largo de las terrazas del sustrato de zafiro y tienen un área comprendida entre 10 um y 60 um. Las medidas de reflectancia diferencial realizadas en estos cristales muestran que el área de los cristales de MoS tiene influencia en la posición y el ensanchamiento del excitón B, mientras que la orientación no influye en los excitones A y B de MoS. Estas medidas demuestran que las medidas de reflectancia diferencial tienen el potencial de ser utilizadas para caracterizar la homogeneidad de muestras de gran área crecidas por deposición química de vapor (CVD).